2017年8月2日，日本，东京——索尼公司（下称“索尼”）宣布公司和位于瑞士苏黎世的IBM研发团队合作研发出一项磁带存储技术，即一种高达201 Gb/in2(每平方英寸千兆比特)密度的磁带存储介质。这项成果得以实现归功于索尼使用润滑剂的新型磁带存储技术，以及IBM苏黎世研发团队新研发的写/读磁头、先进伺服控制技术和创新信号处理算法。高达201Gb/in2密度，比常规的磁带存储介质*1（9.6 Gb/in2）大约20倍。这项技术支持每数据磁盒330TB*2的大容量存储，但是常规技术只支持每数据磁盒15TB。
*1指和IBM TS1155磁带驱动器，JD磁盒（未压缩），最新型的企业级磁带系统相比。
*2假设和TS1155格式的格式开销相同，并考虑到更薄样带导致带长增加6.4%的情况。一个TS1155 JD磁盒能以4.29英寸X 4.92英寸X 0.96英寸（109.0 mm x 125 mm x 24.5 mm）的尺寸提供15TB未压缩数据。
这些研发结果由索尼和IBM苏黎世研发团队于2017年8月2日在日本筑波国际会展中心举行的第28届磁记录大会上联合发布。
近年来，物联网（IoT）的发展，云服务的普及以及大数据的应用帮助创造了新的市场，促进了对大容量数据存储介质需求的增加。此外，在确保信息系统中（例如数据库、服务器和信息安全管理等方面）的数据能可靠恢复方面，数据存储的重要性正在被重申。在这样的背景下，磁带由于众多优势显示出其作为存储介质的巨大潜力，包括长时间存储数据能力、低能耗、低成本以及空间节省能力等。
缩小磁带和磁头之间的距离（空隙）对于磁带存储介质实现高密度记录至关重要。减少的空隙会导致磁带表面和磁头之间的接触点摩擦增加，但是必须要减少摩擦，且磁带表面必须沿着磁头平滑行进才能实现高速度、高容量读写。索尼在建立这种新的磁带技术后，便研发出可以应用在磁带表面和磁头之间的润滑剂。这种低摩擦的润滑剂不仅减少了磁带表面和磁头之间的摩擦，而且在润滑剂和磁带的磁性层之间形成了牢固的粘合保护层。
此外，这项新技术可以创造出带有微型磁性颗粒、延长带长的纳米级磁性层*3。一般情况下，普遍的问题是在磁层形成期间，设备表面产生的杂质气体会导致晶体取向不统一和晶粒尺寸不一致。新研发的减少杂质气体的处理技术可与溅射淀积*4方法一起使用。溅射淀积是一种形成平均粒径为7nm的纳米级磁层的方法，会使带长延长。这些在加工技术方面的进步为生产可以容纳1000多米长磁带的磁带存储磁盒打下了基础。
*3纳米级磁性层：索尼原创的薄层带形成技术，可以在基板上形成一层均匀的纳米级磁性颗粒。这项技术优化了溅射条件，使基板表面的不均匀程度最小化，实现了微型磁性颗粒的均匀沉积。
*4溅射沉积：一种薄层形成方法。原理是使用静电放电迫使氩（Ar）离子与源材料（目标）碰撞，溅射的材料在基板上会沉淀形成一种薄层。
索尼将这项磁带技术和IBM苏黎世研发团队新研发出的写/读磁头、先进的伺服控制技术和创新的信号处理算法相结合，得到了201 Gb/in2 密度，比现在主流的磁粉膜磁带数据存储介质大约20倍。
索尼在这项新成果的基础上，会继续推进磁带技术的发展，旨在将能够进行大容量数据记录的下一代磁带存储介质商业化，并实现更高的记录密度。
（本文译自英文原文，供参考）
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索尼公司是世界上民用及专业视听产品、游戏产品、通信产品、核心部件和信息技术等领域的先导之一。它在音乐、影视、电脑娱乐以及在线业务方面的成就也使其成为全球领先的电子和娱乐公司。公司在截止到2017年3月31日结束的2016财年，合并销售额达678.86亿美元。
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